| 产品特性：抛光打磨 | 是否进口：否 | 产地：河南 |
| 品牌：腾宇 | 型号：齐全 | 种类：棕刚玉 |
| 规格：齐全 | 材质：碳化硅 | 粒度：齐全目 |
| 适用范围：抛光喷砂 |
喷砂磨料适用范围: 工件材质，喷砂目的工艺要求；不锈钢，表面去污、除焊渣及亚光效果；铁质工件，去锈、除污、除氧化皮，增大镀层、涂层附着力；铝质工件，去氧化皮，表面强化、光饰作用；铜质工件，去氧化皮亚光效果；玻璃制品水晶磨砂、刻图案；塑胶制品(硬木制品) 亚光效果；牛仔布等特殊面料、毛绒加工及效果图案
堆积密度为：1.53~1.99g/cm3,磨料的堆积密度与磨料的粒度，粒度组成，品种，颗粒形状等因素都有关,一般来说，粗粒度磨料比细粒度磨料堆积密度大，混合粒度磨料的堆积密度大于单一的粒度密度。
HyunHaKim旧副对比考察了等离子体光催化和五种传统的等离子体反应器(脉冲、介质阻挡、表面放电、填充床以及等离子体催化)降解气相苯的效果，研究表明等离子体光催化反应器降解苯效果，能量利用效率和碳平衡均，并且产生的气溶胶最少。目前作为催化剂的N型半导体种类很多，如：TiO：、ZnO、Fe：O，、CdS和WO，等，由于TiO：具有较高的光稳定性、紫外线吸收能力和化学反应活性，且价廉***等优点，因此目前大多采用其为光催化剂的理想半导体材料Ⅲ25。
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